Công dụng chủ yếu:
Bộ nguồn xung dòng BP chủ yếu được sử dụng cho lớp phủ ion đa hồ quang, lớp phủ ion hồ quang được lọc từ tính, lớp phủ phún xạ magnetron DC, lớp phủ phún xạ magnetron tần số trung bình đôi và lắng đọng hơi hóa chất tăng cường plasma. Các chức năng chính bao gồm: làm sạch ánh sáng trên bề mặt phôi cần mạ, bắn phá ion trước khi phủ và tăng tốc ion trong quá trình phủ, v.v.
Đặc điểm chủ yếu:
- Có chức năng ổn định điện áp, đặc tính sụt điện áp lý tưởng, hạn chế hiệu quả bề mặt của phôi khỏi tia lửa, và cải thiện đáng kể năng suất, độ hoàn thiện bề mặt và lực liên kết màng của các bộ phận được mạ.
- Bằng cách điều chỉnh thích hợp chu kỳ làm việc, tốc độ hình thành màng và nhiệt độ có thể được cải thiện và kiểm soát, tăng lực liên kết của lớp màng và có thể tỉ lệ độ lắng đọng.
- Bánh răng áp suất riêng biệt / bánh răng áp suất thấp hai bánh răng, bánh răng áp suất cao thích hợp để làm sạch phát sáng và bắn phá ion, bánh răng áp suất thấp thích hợp để tăng tốc ion trong quá trình phủ
- Tần số 40KHz, chu kỳ nhiệm vụ 20% -80%
- Điều khiển thủ công tùy chọn/ Điều khiển giao diện mô-đun, Giao diện truyền thông RS485 tùy chọn.
Lựa chọn thông số
Loại | Công suất (kW) | Dòng điện làm việ(A) | Kích thước ngoài | Phương pháp làm lạnh | Điện áp không tải(V) | Điện áp làm việc(V) |
MSB – 10k | 10 | 12.5 | 1 đơn vị | Làm mát bằng gió
Kích thước đơn vị 480 * 243 * 565(W * H * D) |
1000 | 150-800 |
MSB – 20k | 20 | 25 | 1 đơn vị | |||
MSB – 30k | 30 | 37.5 | 2đơn vị | |||
MSB – 40k | 40 | 50 | 2đơn vị | |||
MSB – 20k | 20 | 25 | 1 đơn vị | Làm mát bằng gió
Kích thước đơn vị 480*280*580 (W*H*D)
|
1000 | 150-800 |
MSB – 30k | 30 | 37.5 | 1 đơn vị | |||
MSB – 40k | 40 | 50 | 1 đơn vị | |||
MSB – 60k | 60 | 75 | 2đơn vị | |||
MSB – 80k | 80 | 100 | 2đơn vị | |||
MSB – 100k | 100 | 125 | 3 đơn vị | |||
MSB – 120k | 120 | 150 | 3 đơn vị |